ケーススタディ: ヴィステックリソグラフィー(Vistec Lithography)、RLE20干渉計システムにより最新電子ビームの装置パフォーマンスを向上 (pdf)

File size: 2.47 MB Language: 日本語 Part number: H-5225-0740

ケーススタディ:  ヴィステックリソグラフィー(Vistec Lithography)、RLE20干渉計システムにより最新電子ビームの装置パフォーマンスを向上

ヴィステックリソグラフィー(旧社名ライカマイクロシステムズ)の VB300 電子ビームリソグラフィーは、1993 年に市場導入され、大きな成功を収めた VB6 シリーズの一環として開発された製品です。 新しい装置の設計において、ヴィステックでは、ノイズによる位置決め誤差を低減することによって装置の性能を大幅に改善できることを特定しました。 現在では、機械的な剛性を向上すると共に、レニショーのディファレンシャル干渉計技術を使用した RLE20レーザー エンコーダシステムを採用することによって、このような誤差を 3nm 未満に抑えることが可能になりました。

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